Субстраты для кремниевой эпитаксии
Кремниевые подложки для эпитаксии предназначены для выращивания эпитаксиальных слоев.
- Быстрая доставка
- Гарантия качества
- Круглосуточное обслуживание клиентов
Внедрение продукции
Субстраты для кремниевой эпитаксии
Эти кремниевые эпитаксионные подложки тщательнопредназначен для выращивания эпитаксиального слоя, служащий кристаллическим шаблоном высокой-чистоты для расширенной интеграции устройств Power и Logic. Наши подложки, созданные с использованием точного вытягивания по методу Чохральского (Чехия) и ультра-чистой полировки, обеспечивают бескомпромиссное состояние поверхности. Гладкость на атомном-уровне является фундаментальным требованием для достижения высококачественного-гомоэпитаксиального и гетероэпитаксиального осаждения в полупроводниках следующего поколения.
Оптимизированная поверхность для-высокого качества осаждения:контролируемая поверхность и ориентация кристалловоптимизированы для обеспечения идеальной среды нуклеации. Строго регулируяВыкл-угол обрезки(дезориентация) с точностью до миллиградуса мы реализуем механизм пошагового-роста потока. Это сводит к минимуму несоответствие решеток и предотвращает образование дефектов упаковки и проточных дислокаций, что важно для стабилизации электрических характеристик последующего эпи-слоя.
Контролируемое удельное сопротивление для изоляции устройства:Эти подложки, специально разработанные для силовых и аналоговых приложений, предлагаютстабильные свойства материалас очень однородным профилем легирующей примеси. Это обеспечивает точный контроль над интерфейсом---epi, улучшает изоляцию устройства и снижает паразитную емкость в средах с высокой-частотой и высоким-напряжением.
Высокая-термостойкость:Для каждой подложки действуют жесткие допуски по содержанию межузельного кислорода и металлических примесей, чтобы предотвратить авто-легирование и термическое коробление. Его превосходная механическая прочностьподдерживает несколько этапов обработки с минимальными вариациями, сохраняя геометрическую точность во время высоко-циклов CVD (химического осаждения из паровой фазы) и быстрой термической обработки (RTP).
горячая этикетка : Подложки для кремниевой эпитаксии, Китайские подложки для кремниевой эпитаксии производители, поставщики, завод
Вам также может понравиться
-

Квадратная кремниевая пластина высокой-чистоты — иде...
-

Прецизионная-конструкционная квадратная кремниевая п...
-

Квадратная кремниевая пластина – идеально подходит д...
-

Высококачественная-пластина оксида кремния для сложн...
-

Пластина оксида кремния для превосходной обработки п...
-

Прецизионная пластина оксида кремния для электроники
