Слиток кремния с низким-кислородом для эпитаксии и усовершенствованной литографии
Этот слиток кремния с низким-кислородом, специально изготовленный для платформ с пластинами,-готовых к эпитаксии, сводит к минимуму осаждение кислорода, предотвращая напряжение кристалла во время эпитаксиального выращивания CVD.
- Быстрая доставка
- Гарантия качества
- Круглосуточное обслуживание клиентов
Внедрение продукции
Слиток кремния с низким-кислородом для эпитаксии и продвинутой литографии
Этот слиток кремния с низким-кислородом, специально изготовленный для платформ с пластинами,-готовых к эпитаксии, сводит к минимуму осаждение кислорода, предотвращая напряжение кристалла во время эпитаксиального выращивания CVD. Контролируемая концентрация кислорода улучшает характеристики геттера, повышая производительность устройств для наноразмерных логических чипов, ускорительных устройств ASIC и вычислительных процессоров искусственного интеллекта. Он обеспечивает исключительную стабильность в средах-плазмы высокой энергии и камерах термического окисления, поддерживая как периодические печи, так и системы RTP с одной-пластиной. Превосходная диэлектрическая однородность слитка и плоскостность пластины обеспечивают более точную точность выравнивания для сложной литографии, включая узлы на основе EUV-. Идеально подходит для предприятий, стремящихся к долгосрочному-переходу на технологию менее 3 нм.
горячая этикетка : Кремниевый слиток с низким-кислородом для эпитаксии и усовершенствованной литографии, Китай Кремниевый слиток с низким-кислородом для эпитаксии и передовой литографии производители, поставщики, завод
